Proceso: MMF + ACF + RO de 2 etapas + EDI + MB + UV + SF
Aplicación: Producción de agua ultrapura para la industria de semiconductores
Ubicación: Hanaizumi, Japón
Agua de alimentación: Agua del grifo municipal japonés
Conductividad del agua de alimentación: 290 μS/cm y 310 μS/cm
Tasa de recuperación del sistema: 60%
Consumo máximo de agua: 10 m³/h
Calidad del agua del producto: Resistividad >18 MΩ-cm
El agua del producto cumple las normas ASTM D5127-07 Tipo E1.1, con niveles de impurezas extremadamente bajos. Está diseñada específicamente para procesos de alta limpieza en la fabricación de chips semiconductores y representa el grado más alto de pureza del agua.
