Application of PSI TFN Anti-pollution Membrane in Semiconductor Wastewater Recycling

Aplicación de la membrana anticontaminación PSI TFN en el reciclado de aguas residuales de semiconductores

MEMBRANA PSI^® Los elementos de membrana antiincrustantes Pro-XFR se utilizan en el tratamiento integral de aguas residuales de plantas de semiconductores, reutilizando el agua producida para la línea de producción.

Resumen del proyecto

Ubicación: Ciudad de Wuxi, provincia de Jiangsu
Fuente de agua: Un grupo de plantas de semiconductores
Capacidad: RO Caudal de permeado 16.416m³/d
Usuario: Parque Industrial de Semiconductores

Información sobre el diseño de sistemas de ósmosis inversa

Flujo medio de diseño: 19,05 LMH
Tasa de recuperación de diseño de una sola unidad del sistema de ósmosis inversa: 70%
Cantidad de sistemas de membrana: 6 unidades
Adopción de elementos de membrana: MEMBRANA PSI^® Pro-XFR
Avanzar en las pruebas piloto y comparar el rendimiento de otros elementos de membrana importados con ventajas significativas en la lucha contra la contaminación MEMBRANA PSI^® Pro-XFR.

Información del sistema

Application of PSI TFN Anti-pollution Membrane in Semiconductor Wastewater Recycling

Parámetro	Cantidad de recipientes a presión	Por recipiente a presión Cantidad de membranas	Modelo de membrana	Membrana total Cantidad
1º	17	6	Pro-XFR-8040	102
2ª	9	6	Pro-XFR-8040	54
TDS	mg/L	Hacia 1600	-	-
Turbidez	NTU	＜5	-	-
F-	mg/L	2.5-3.5	-	-