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ANWENDUNGSFALL
ANWENDUNGSFALL
Anwendung der PSI TFN Anti-Pollution Membrane im Halbleiterabwasser-Recycling

PSI MEMBRANE® Pro-XFR Antifouling-Membranelemente werden in der umfassenden Abwasserbehandlung von Halbleiterwerken eingesetzt, wobei das Produktwasser für die Produktionslinie wiederverwendet wird.

Überblick über das Projekt

Standort: Wuxi-Stadt, Provinz Jiangsu
Wasserquelle: Eine Halbleiterfabrik-Gruppe
Kapazität: RO Permeat-Durchflussrate 16.416m³/d
Benutzer: Semiconductor Industrial Park

Informationen zur Auslegung von Umkehrosmosesystemen

  • Durchschnittlicher Auslegungsfluss: 19,05 LMH
  • RO System Single Unit Design Rückgewinnungsrate: 70%
  • Anzahl der Membransysteme: 6 Einheiten
  • Einführung von Membranelementen: PSI MEMBRANE® Pro-XFR
  • Vorgezogene Pilotversuche und Vergleich der Leistung anderer importierter Membranelemente mit erheblichen Vorteilen bei der Verschmutzungsbekämpfung PSI MEMBRANE® Pro-XFR.

System-Informationen

Application of PSI TFN Anti-pollution Membrane in Semiconductor Wastewater Recycling

Parameter

Druckgefäß Menge

Pro Druckbehälter Membrane Menge

Modell der Membrane

Gesamt Membran
Menge

1.

17

6

Pro-XFR-8040

102

2.

9

6

Pro-XFR-8040

54

TDS

mg/l

Um 1600

-

-

Trübung

NTU

<5

-

-

F-

mg/l

2.5-3.5

-

-

Statistik über die Häufigkeit der chemischen Reinigung von Membranelementen verschiedener Marken unter identischen Pilotbedingungen

Application of PSI TFN Anti-pollution Membrane in Semiconductor Wastewater Recycling1

Schaukasten

Application of PSI TFN Anti-pollution Membrane in Semiconductor Wastewater Recycling2
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