Japon Projet d'eau ultra-pure Kuramoto 2*3 m³/h

Procédé : MMF + ACF + 2-Stage RO + EDI + MB + UV + SF
Application : Production d'eau ultra-pure pour l'industrie des semi-conducteurs
Lieu : Hanaizumi, Japon
Eau d'alimentation : Eau municipale japonaise
Conductivité de l'eau d'alimentation : 290 μS/cm & 310 μS/cm
Taux de récupération du système : 60%
Consommation maximale d'eau : 10 m³/h
Qualité de l'eau du produit : Résistivité >18 MΩ-cm

Projet Suzhou Suna Optoelectronics 2*11 m³/h d'eau ultra-pure de qualité électronique

L'eau du produit est conforme aux normes ASTM D5127-07 Type E1.1, avec des niveaux d'impureté extrêmement bas. Elle est spécialement conçue pour les processus de haute propreté dans la fabrication de puces à semi-conducteurs, et représente le plus haut niveau de pureté de l'eau.

Présentation de cas