Aplicação das Membranas de Osmose Inversa PSI TFN na Produção de Água Purificada e Ultrapurificada

**Japão Kuramoto 2*3 m³/h Projeto de água ultrapura**

Processo: MMF + ACF + RO de 2 fases + EDI + MB + UV + SF
Aplicação: Produção de água ultrapura para a indústria de semicondutores
Localização: Hanaizumi, Japão
Água de alimentação: Água da torneira municipal japonesa
Condutividade da água de alimentação: 290 μS/cm e 310 μS/cm
Taxa de recuperação do sistema: 60%
Consumo máximo de água: 10 m³/h
Qualidade da água do produto: Resistividade >18 MΩ-cm

**Projeto de água ultrapura de grau eletrónico de 2*11 m³/h da Suzhou Suna Optoelectronics**

A água do produto está em conformidade com as normas ASTM D5127-07 Tipo E1.1, apresentando níveis de impureza extremamente baixos. Foi especificamente concebida para processos de limpeza elevada no fabrico de pastilhas semicondutoras, representando o grau mais elevado de pureza da água.