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적용 사례
적용 사례
반도체 폐수 재활용에 PSI TFN 오염 방지 멤브레인 적용

PSI 멤브레인® Pro-XFR 오염 방지 멤브레인 요소는 반도체 공장의 종합적인 폐수 처리에 사용되며, 생산 라인에 생산수를 재사용합니다.

프로젝트 개요

위치 장쑤성 우시시
수원: 반도체 공장 그룹
용량: RO 투과 유량 16,416m³/d
사용자: 반도체 산업 단지

역삼투압 시스템 설계 정보

  • 평균 설계 플럭스: 19.05 LMH
  • RO 시스템 단일 장치 설계 회수율: 70%
  • 멤브레인 시스템 수량: 6개
  • 멤브레인 요소의 채택: PSI 멤브레인® Pro-XFR
  • 사전 파일럿 테스트 및 다른 수입 멤브레인 요소의 성능을 비교하여 오염 방지 PSI 멤브레인에서 상당한 이점을 제공합니다.® Pro-XFR.

시스템 정보

Application of PSI TFN Anti-pollution Membrane in Semiconductor Wastewater Recycling

매개변수

압력 용기 수량

압력 용기 멤브레인당 수량

멤브레인 모델

총 멤브레인
수량

1위

17

6

Pro-XFR-8040

102

2nd

9

6

Pro-XFR-8040

54

TDS

mg/L

약 1600

-

-

탁도

NTU

<5

-

-

F-

mg/L

2.5-3.5

-

-

동일한 파일럿 조건에서 여러 브랜드의 멤브레인 요소에 대한 화학적 세척 빈도 통계

Application of PSI TFN Anti-pollution Membrane in Semiconductor Wastewater Recycling1

사례 쇼케이스

Application of PSI TFN Anti-pollution Membrane in Semiconductor Wastewater Recycling2
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