Anwendung der PSI TFN Anti-Pollution Membrane im Halbleiterabwasser-Recycling

PSI MEMBRANE^® Pro-XFR Antifouling-Membranelemente werden in der umfassenden Abwasserbehandlung von Halbleiterwerken eingesetzt, wobei das Produktwasser für die Produktionslinie wiederverwendet wird.

Überblick über das Projekt

Standort: Wuxi-Stadt, Provinz Jiangsu
Wasserquelle: Eine Halbleiterfabrik-Gruppe
Kapazität: RO Permeat-Durchflussrate 16.416m³/d
Benutzer: Semiconductor Industrial Park

Informationen zur Auslegung von Umkehrosmosesystemen

Durchschnittlicher Auslegungsfluss: 19,05 LMH
RO System Single Unit Design Rückgewinnungsrate: 70%
Anzahl der Membransysteme: 6 Einheiten
Einführung von Membranelementen: PSI MEMBRANE^® Pro-XFR
Vorgezogene Pilotversuche und Vergleich der Leistung anderer importierter Membranelemente mit erheblichen Vorteilen bei der Verschmutzungsbekämpfung PSI MEMBRANE^® Pro-XFR.

System-Informationen

Anwendung der PSI TFN Anti-Pollution Membrane im Halbleiterabwasser-Recycling

Parameter	Druckgefäß Menge	Pro Druckbehälter Membrane Menge	Modell der Membrane	Gesamtmenge der Membrane
1.	17	6	Pro-XFR-8040	102
2.	9	6	Pro-XFR-8040	54
TDS	mg/L	Um 1600	-	-
Trübung	NTU	＜5	-	-
F-	mg/L	2.5-3.5	-	-