일본 쿠라모토 2*3 m³/h 초순수 프로젝트

공정: MMF + ACF + 2단계 역삼투 + EDI + MB + UV + SF
적용 분야: 반도체 산업용 초순수 생산
위치: 일본 하나이즈미
급수용수: 일본 시립 수돗물
급수 전도도: 290 μS/cm 및 310 μS/cm
시스템 복구율: 60%
최대 물 사용량: 10m³/시간
제품 수질: 저항률 >18 MΩ·cm

쑤저우 쑤나 광전자공학 2*11 m³/h 전자 등급 초순수 프로젝트

이 제품은 ASTM D5127-07 Type E1.1 표준을 준수하며, 극히 낮은 불순물 함량을 자랑합니다. 특히 반도체 칩 제조 공정에서 요구되는 높은 청정도를 충족하도록 설계되었으며, 최고 수준의 순도를 제공합니다.

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