{"id":4475,"date":"2025-09-25T13:40:14","date_gmt":"2025-09-25T05:40:14","guid":{"rendered":"http:\/\/puxi2.wangluocloud.com\/?p=4475"},"modified":"2025-10-24T09:08:38","modified_gmt":"2025-10-24T01:08:38","slug":"application-of-psi-tfn-reverse-osmosis-membranes-in-purified-and-ultrapurified-water-production","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/www.psimembrane.com\/it\/case\/application-of-psi-tfn-reverse-osmosis-membranes-in-purified-and-ultrapurified-water-production\/","title":{"rendered":"Applicazione delle membrane a osmosi inversa PSI TFN nella produzione di acqua depurata e ultrapurificata"},"content":{"rendered":"<div style=\"margin-top: 30px;\">\n<h4><strong>Giappone Progetto acqua ultrapura Kuramoto 2*3 m\u00b3\/h<\/strong><\/h4>\n<p>Processo: MMF + ACF + RO a 2 stadi + EDI + MB + UV + SF<br \/>\nApplicazione: Produzione di acqua ultrapura per l'industria dei semiconduttori<br \/>\nPosizione: Hanaizumi, Giappone<br \/>\nAcqua di alimentazione: Acqua di rubinetto comunale giapponese<br \/>\nConducibilit\u00e0 dell'acqua di alimentazione: 290 \u03bcS\/cm e 310 \u03bcS\/cm<br \/>\nTasso di recupero del sistema: 60%<br \/>\nConsumo massimo di acqua: 10 m\u00b3\/h<br \/>\nQualit\u00e0 dell'acqua del prodotto: Resistivit\u00e0 &gt;18 M\u03a9-cm<\/p>\n<\/div>\n<div style=\"margin-top: 30px;\">\n<h4><strong>Progetto di acqua ultrapura di grado elettronico 2*11 m\u00b3\/h di Suzhou Suna Optoelectronics<\/strong><\/h4>\n<p>L'acqua prodotta \u00e8 conforme agli standard ASTM D5127-07 Tipo E1.1, con livelli di impurit\u00e0 estremamente bassi. \u00c8 progettata specificamente per i processi ad alta pulizia nella produzione di chip per semiconduttori e rappresenta il massimo grado di purezza dell'acqua.<\/p>\n<\/div>\n<div class=\"wp-block-image\" style=\"margin-top: 30px;\">\n<figure class=\"aligncenter size-large\"><img loading=\"lazy\" class=\"alignnone wp-image-4698 size-medium\" src=\"\/wp-content\/uploads\/2025\/10\/8086d39429cee83241d8.png\"  width=\"800\" height=\"388\" title=\"Applicazione delle membrane a osmosi inversa PSI TFN nella produzione di acqua depurata e ultrapurificata\" alt=\"Application of PSI TFN Reverse Osmosis Membranes in Purified and Ultrapurified Water Production\" \/><\/figure>\n<\/div>\n<div style=\"margin-top: 30px;\">\n<h4><strong>Vetrina dei casi<\/strong><\/h4>\n<figure class=\"wp-block-image size-large\"><\/figure>\n<figure class=\"wp-block-image size-full\"><img src=\"\/wp-content\/uploads\/2025\/10\/8f14e45fceea167a5a36-1.jpg\"  class=\"wp-image-4741\" title=\"Applicazione delle membrane a osmosi inversa PSI TFN nella produzione di acqua purificata e ultrapurificata1\" alt=\"Application of PSI TFN Reverse Osmosis Membranes in Purified and Ultrapurified Water Production1\" \/><\/figure>\n<\/div>","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Japan Kuramoto 2*3 m\u00b3\/h Ultrapure Water Project Process:&nbsp;MMF + ACF + 2-Stage RO + EDI + MB + UV + SF Application:&nbsp;Production of Ultrapure Water for the Semiconductor Industry Location:&nbsp;Hanaizumi, Japan Feed Water:&nbsp;Japanese Municipal Tap Water Feed Water Conductivity:&nbsp;290 \u03bcS\/cm &amp; 310 \u03bcS\/cm System Recovery Rate:&nbsp;60% Maximum Water Consumption:&nbsp;10 m\u00b3\/h Product Water Quality:&nbsp;Resistivity &gt;18 M\u03a9\u00b7cm [&hellip;]<\/p>","protected":false},"author":1,"featured_media":4476,"comment_status":"open","ping_status":"open","sticky":false,"template":"","format":"standard","meta":[],"categories":[68],"tags":[],"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/www.psimembrane.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/4475"}],"collection":[{"href":"https:\/\/www.psimembrane.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/posts"}],"about":[{"href":"https:\/\/www.psimembrane.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/types\/post"}],"author":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.psimembrane.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/users\/1"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.psimembrane.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=4475"}],"version-history":[{"count":21,"href":"https:\/\/www.psimembrane.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/4475\/revisions"}],"predecessor-version":[{"id":5042,"href":"https:\/\/www.psimembrane.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/4475\/revisions\/5042"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.psimembrane.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media\/4476"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/www.psimembrane.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=4475"}],"wp:term":[{"taxonomy":"category","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.psimembrane.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/categories?post=4475"},{"taxonomy":"post_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.psimembrane.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/tags?post=4475"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}